受华为被制裁影响，外界对芯片行业，以及芯片生产制造产业链十分关注。

据芯思想研究院发布的数据，2020年，ASML、Nikon、Canon的集成电路用光刻机出货量总计413台，相比2019年有15%的涨幅。

而其他公司，如上海微电子SMEE，在2020年的光刻机出货预估约60+台，主要集中在先进封装、LED、以及FPD领域。

相比光刻机领域的三大巨头ASML、Nikon、Canon，上海微电子虽然有很大差距，但它却是中国唯一的光刻机巨头。

相公开资料显示，上海微电子成立于2002年，公司的主营业务正是光刻机设备。

时至今日，上海微电子已经成为大陆光刻设备龙头企业，在国内中端先进封装光刻机和LED光刻机市场，独占80%的市场份额。

要知道，相较于1984年着手研发光刻机的ASML，上海微电子的起步晚了近20年，但上海微电子的发展速度和对我国半导体企业的影响力却不容小觑。

早在2007年，上海微电子就宣布突破365mm光波长的DUV光刻技术，可用于90nm芯片制程的生产。

到了2016年，上海微电子三款步进扫描投影光刻机——SSX600系列，成功实现量产，其中SSA600/20光刻机分辨率达90mm。

虽然上海微电子被卡在90nm制程上已有四年之久，时间跨度令人心惊，但需要注意的是，上海微电子的光刻机是自主研发。

而ASML的光刻机，尽管技术十分先进，但一台光刻机却是由多个国家和企业的智慧集结而成。

例如，来自美国的光源设备、来自德国的蔡司镜头，来自日本的光学器材，以及法国阀件、瑞典轴承等，而其他零件也大多依赖海外进口。

相比之下，上海微电子能取得今天的成就，十分难得。

另外，自2020年6月网络上就流传着上海微电子，将在2021年交付28nm光刻机一事。

相较于90nm制程芯片，28nm制程的芯片能够制造出性能更为优越的芯片产品，这一技术突破的战略意义毋庸置疑，中国芯片业对此更是期待已久。

同时，2020年方正证券还曾发布研报称，在02专项光刻机项目二期中，设定的时间为2020年12月验收193nmArF浸没式DUV光刻机。

尽管目前还未有消息，但考虑到在上海微电子背后承担核心零部件研发的企业，代表了中国最顶尖的半导体研发实力，因此，193nmArF浸没式DUV光刻机仍然值得期待。